基片表面形稅对游膜的生长有着非常重要的彩响。若基片的表面相糙度超来超大，绪合面缺陷也会越来越多，会影响薄膜的附着和生长速率。因此，在真空镂膜开始前，会对基片进行预处理，起到在清洗基片的同时，增大基片表面粗糖度的作用。

①铬靶 铬作为溅射膜材不但易与基材结合有很高的附着力，而且铬与氧化物生成CrO3。膜时，其机械性能、耐酸性能、热稳定性能都较好。此外，铬在不完全氧化状态下还可生成弱吸收膜。将纯度98%以上的铬制成矩形靶材或圆筒形铬靶材已有报道。此外，采用烧结法制成铬矩形靶的技术也已成熟。 ② ITO靶 制备 ITO膜所用的靶材，过去通常采用 In-Sn 合金材料来制靶，然后在镀膜过程中通氧，而后生成ITO膜。这种方法由于反应气体控制较难，制重复性较差。因而，近几年已经被ITO烧结靶所取代。ITO靶材典型的工艺过程是按质量配比，通过球磨法将其充分混合后，再加入专用有机粉合剂将其混合成所要求的形状，并通过加压压实后，再将板块在空气中以 100℃/h的升温速度升温到1600℃后保温1h，再以冷却速度为100℃/h降到常温而制成。制靶时靶平面要求磨光，以免在溅射过程中出现热点。

①离子束辅助沉积技术的最大特点是膜与基体间的附着力强，膜层十分牢固。实验表明:离子束辅助沉积的附着力比热蒸镀的附着力提高了几倍到几百倍，其原因主要是由于离子轰击对表面所产生的清洗作用，使膜基界面上形成梯度界面结构或称混合过渡层，以及减少膜的应力所致。 ②离子束辅助沉积可改善膜的机械性能、延长疲劳寿命，非常适合制备氧化物、碳化物、立方BN、TiB2，以及类金刚石涂层等。例如在1Cr18Ni9Ti耐热钢上采用离子束辅助沉积技术生长 200nm的Si3N4薄膜时，不仅可以抑制材料表面疲劳裂纹的萌生，而且可以明显地降低疲劳裂纹的扩散速率，对延长其寿命有着良好的作用。