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    2023-11
    CVD技术的基本原理
    CVD技术是建立在化学反应基础上的,通常把反应物是气态而生成物之一是固态的反应称为CVD反应,因此其化学反应体系必须满足以下三个条件: (1)在沉积温度下,反应物必须有足够高的蒸气压。若反应物在室温下全部为气态,则沉积装置就比较简单,若反应物在室温下挥发很小,则需要加热使其挥发,有时还需要用运载气体将其带人反应室。 (2)反应生成物中,除了所需要的沉积物为固态之外,其余物质都必须是气态。 (3)沉积薄膜的蒸气压应足够低,以保证在沉积反应过程中,沉积的薄膜能够牢固地附着在具有一定沉积温度的基片上。基片材料在沉积温度下的蒸气压也必须足够低。
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    2023-11
    离子束辅助沉积效果
    离子注入的主要不足之处是其注入层比较浅,约为百纳米数量级。这一深度对材料表面改性,特别是金属材料表面改性来说显得不足。为了弥补这一缺点。人们把离子注入与膜层沉积过程结合起来,形成了离子束辅助沉积表面改性技术。离子束辅助沉积技术是把离子注入与气相沉积薄膜相结合的材料表面改性新技术。
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    2023-11
    离子束的能量及作用
    离子束能量范围分类 离子束的能量是在高压电场加速下获得的。其能量 (E)范围如下: 1)高能离子束能量,E=20~100keV,用于离子束注人和离子束混合。 2)中能离子束能量,E=500~1000eV,用于离子束射镀膜、离子束刻蚀镀膜前预轰击清洗。 3)低能离子束能量,E≤500eV,镀膜时进行辅助沉积
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    2023-11
    光学薄膜在生物医疗领域中的应用
    在采用光谱分析的生物医学光学检测技术中,有三种有代表性分析方法紫外可见分光光度法(光电比色法)、荧光分析法、拉曼分析法,分别实现了组织、细胞、分子不同级别的生物医学检测。
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