众所周知，半导体的含义顾名思义就是其导电性介于干导体和绝缘体之间，其电阻率间于金属和绝缘体之间，通常在室温时为1mΩ·cm～1GΩ·cm 范围之内。近年来，真空半导体镀膜在各大半导体企业中，显然其地位是越来越高的，特别是在一些大规模集成系统电路的开发技术研究方法以磁电变换器件、发光器件等研制工作方面的体现尤为明显，真空半导体镀膜具有重要的作用。 

  半导体根据其固有的性质、温度和杂质浓度来确定它的特征表现。真空半导体镀膜材料之间进行区分主要看它的组成化合物。大致都是以硼、碳、硅、锗、砷、锑、碲、碘等，还有一些比较少数的GaP、GaAs、lnSb等。另外一些氧化物半导体也有不少，如FeO、Fe₂O₃、MnO、Cr₂O₃、Cu₂O 等。 

  真空蒸发、溅射镀膜、离子镀膜等设备都可以做真空半导体镀膜。这些镀膜设备的工作原理上都是有所区别，但都是使半导体材料镀膜材料沉积在基底上，而作为基底的材料，并没有什么要求，可以是一种半导体也可以不是。此外，通过杂质扩散和离子注入都可以半导体基片的表面上一个 的范围中，可以制备出具有不同电学和光学性质的镀膜。由此形成的薄层，也可以一概而论，当作半导体镀膜来处理。

   真空半导体镀膜在电子学中不管是有源器件还是无源器件，都是不可或缺的存在。随着真空半导体镀膜技术的不断进步，对膜特性进行精密把控已经成为可能。 

  近年来，非晶质镀膜和多晶镀膜在制造光电导器件、镀膜场效应管、高效太阳能电池等方面都有迅猛的进步。另外，因为真空半导体镀膜的发展，因为传感器的薄膜化，也大幅度降低了材料选择难度，使得制造工艺逐渐简化，真空半导体镀膜设备已成为半导体应用的一个必要存在。设备广泛应用于摄像器件、太阳能电池、镀膜晶体管、场致发光、阴极发光、电子发射、薄膜传感元件等半导体镀膜。

该磁控溅射镀膜生产线采用全自动化控制系统设计，方便直观的触摸屏人机对话界面；生产线设计了完备的功能菜单，实现整个生产线部件运行状态的全程监控，及工艺参数设置、运行保护和报警功能；整个电气控制系统安全、可靠和稳定。配置了上下双面磁控溅射靶或单面镀膜系统。

设备主要应用于陶瓷线路板、贴片高压电容等基片镀膜，主要应用领域为电子类线路板。