实验型卷绕镀膜设备采用磁控溅射及阴极电弧相结合的镀膜技术，既满足了对膜层致密性要求，又满足了高离化率的要求；立式结构，工件卷绕系统垂直安装在真空室内；多室门设计，阴极安装在侧门上，可装六套阴极源或离子源，开门即可对靶进行维护或更换；设备可一次性进行工件表面处理及镀制多层膜，实现多层膜沉积。适用多种金属或化合物镀膜材料。
设备具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、自动化程度高、操作简单灵活、性能稳定、易维护的特点，尤其适用于实验室高校使用，客户可根据自身不同需求选配。
RCW300
300(mm)
设备可根据客户要求定制
