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2024-04
ITO 薄膜的主要应用
透明导电氧化物薄膜具有可见光透射率高、电阻率低,以及耐腐蚀性较好和化学稳定性高等
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2024-04
光学真空镀膜机介绍
光学真空镀膜机大多数是热蒸发真空镀膜设备,主要由三大部分组成:真空系统、热蒸发系统和膜层厚度控制系统。
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2024-03
影响薄膜器件质量的工艺要素及作用机理（下）
3.基片温度的影响
基片温度是膜层生长的重要条件之一。它对膜层原子或分子提供额外能量补充，主要影响膜层结构、凝集系数、膨胀系数、聚集密度。宏观反映在膜层折射率、散射、应力、附着力、硬度和不溶性都会因基片温度的不同而有较大差异。
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2024-03
影响薄膜器件质量的工艺要素及作用机理（上）
光学薄膜器件的制造是在真空室内进行的，同时膜层的生长又是一个微观过程,而目前能够直接控制的却是一些与膜层质量有间接关系的宏观因素的宏观过程。即便如此，人们还是通过长期坚持不懈的实验研究，找到了膜层质量与这些宏观因素之间的规律性关系，成为指导游膜器件制造的工艺规范，对于制造质量优良的光学薄膜器件发挥着重要的作用。
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