19
2023-05
真空蒸发镀膜层的生长规律
蒸发镀膜时，膜层的形核、长大规律是各种离子镀膜技术的基础。
查看详情
12
2023-05
增强型辉光放电离子镀膜技术的共同特点
由于增设了提高离化率的装置，提高了放电电流密度，偏压降低为 0.5~1kV.
减少了高能离子的过度轰击造成的反溅射和对工件表面的损伤效应。
查看详情
09
2023-05
柱状磁控溅射靶的优点
1) 比平面靶的靶材利用率高。在镀膜过程中，无论是旋磁型还是旋靶管型柱状磁控溅射靶，靶管表面各个部位连续经过永磁体前面产生的溅射区接受阴极溅射，靶材可以受到均匀的溅射刻蚀，靶材利用率高。靶材利用率高达80%~90%。
查看详情
05
2023-05
等离子体直接聚合工艺
无论是内电极式聚合设备，还是外电极式聚合设备，等离子体聚合的工艺过程相对简单，但是等离子体聚合中参数选择较为重要，因为等离子体聚合时参数对聚合薄膜的结构和性能影响较大。
查看详情
