设备配置了中频磁控溅射镀膜系统+阳极层离子源+SPEEDFLO闭环控制+晶控监测系统。
采用中频磁控溅射技术沉积各类氧化物，对比传统的电子束蒸发镀膜设备，具有更大的装载量，且可适应更多形状的产品，膜层致密性更高，附着力更强，不易吸附水汽分子，在各类环境中能保持更稳定的光学性能。
设备适用于玻璃、水晶、陶瓷及耐温塑胶类产品；可沉积各类氧化物、单质金属，可制备增亮彩膜、渐变彩膜等介质膜。设备已广泛应用于香水瓶、化妆品玻璃瓶、唇膏盖、水晶装饰件、太阳眼镜、滑雪防护镜、小五金件等装饰性产品。
CF1914
φ1900*H1400(mm)
设备可根据客户要求定制
